Mục tiêu tantali

Mục tiêu tantali

Mục tiêu tantalum sở hữu các đặc điểm như độ tinh khiết cao, cấu trúc dày đặc và độ ổn định phún xạ tốt, thể hiện hiệu suất ổn định trong môi trường chân không và plasma cao. Các màng mỏng được hình thành từ các mục tiêu tantalum thể hiện độ bám dính mạnh, độ đồng đều tốt và độ ổn định hóa học cao, khiến chúng được sử dụng rộng rãi trong các lĩnh vực lắng đọng màng mỏng như chất bán dẫn, mạch tích hợp, bảng hiển thị và lớp phủ quang học.

Giơi thiệu sản phẩm

Mục tiêu Tantalum của chúng tôi

 

 

Kích thước

Đường kính 50-400mm X Độ dày 3-28mm

Cấp

R05200 R05400 R05252 (Ta-2.5W) R05255 (Ta-10W)

độ tinh khiết

Lớn hơn hoặc bằng 99,95% (Tối đa 99,99%)

Kết tinh lại

Tối thiểu 95%

Kích thước hạt

Tối thiểu 40um

Độ nhám bề mặt

Ra0,4 tối đa

Độ phẳng

0,1mm hoặc tối đa 0,10%

Sức chịu đựng

Đường kính +/- 0,254mm

 

Quy trình sản xuất – Nóng chảy chân không bằng chùm tia điện tử

 

 

Chúng tôi áp dụng phương pháp nấu chảy chân không bằng chùm tia điện tử (EB) làm quy trình nấu chảy lõi cho các thỏi tantalum.

Ưu điểm của quy trình:

● Môi trường chân không-cực cao giúp giảm thiểu ô nhiễm khí

● Loại bỏ oxy, nitơ, hydro và tạp chất kim loại vượt trội

● Cấu trúc vi mô và thành phần hóa học có độ đồng đều cao

● Tăng cường khả năng chống ăn mòn và tuổi thọ sử dụng

● Tính nhất quán tuyệt vời giữa các lô

Quá trình này đặc biệt quan trọng đối với các ứng dụng yêu cầu độ tinh khiết cao, độ ổn định lâu dài{0}}và khả năng chống ăn mòn cực cao.

 

 

 

Kiểm soát chất lượng

 

 

Giấy chứng nhận kiểm tra nhà máy (MTC) được cung cấp cho mỗi lô hàng theo yêu cầu.

  • Phân tích thành phần hóa học
  • Kiểm tra kích thước và bề mặt
  • Kiểm tra tính chất cơ học
  • Truy xuất nguồn gốc hàng loạt và tài liệu

 

 

 

ba202009161609045005127

product-800-600
product-800-600

 

Chú phổ biến: mục tiêu tantalum, nhà sản xuất mục tiêu tantalum Trung Quốc, nhà cung cấp, nhà máy

Gửi yêu cầu

whatsapp

Điện thoại

Thư điện tử

Yêu cầu thông tin

túi